離子源

離子源以電子轟擊電離(EI) 或化學(xué)電離(CI) 模式工作。樣品從GC/MSD 接口進入離子源。
燈絲發(fā)射的電子由磁場引導(dǎo)進入離子化室。高能電子與樣品分子相互作用，使之離子化和
碎裂。推斥極的正電壓將正離子推向透鏡組，這里它們要經(jīng)過幾個靜電透鏡。這些透鏡將
離子聚焦成離子束，然后進入質(zhì)量過濾器。

電子轟擊(EI) 離子源

建議用于EI 離子源清潔的材料是砂紙，氧化鋁粉末。

不要將燈絲或透鏡絕緣體浸入到溶劑中。如果絕緣體臟了，要用棉簽蘸上試劑級甲醇清
洗。如果這樣做不能清潔絕緣體，就更換之。

化學(xué)電離(CI) 源

因為CI 源的操作壓力遠比EI 源高，故與EI 相比，需要更經(jīng)常地清洗。

只要出現(xiàn)與離子源污染相關(guān)的性能異常就應(yīng)該清洗離子源。將分析性能作為您的指示。

當清洗CI 源時，要特別注意CI 推斥極、離子源體和拉出極板。確保清洗離子源體和拉出極
板上的0.5 mm 直徑的孔。

清洗該離子源的方法非常類似于清洗EI 離子源的方法。采用EI 的清洗操作步驟，以下內(nèi)容
除外：

? CI 離子源可能看起來不臟，但是，化學(xué)電離留下的沉積物非常難以除去。徹底清洗CI 離
子源
? 使用圓形木質(zhì)牙簽輕輕擦拭離子源體上的電子入口孔和拉出極板上的離子出口孔
? 不能使用鹵代溶劑。最后一步清洗要使用己烷